山東力冠微電子裝備

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本設(shè)備主要是用于制備單晶金剛石??杉ぐl(fā)高穩(wěn)定度的等離子團,從而確保單晶生長的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

本設(shè)備主要用于氧化鎵(Ga2O3)單晶生長(無銥法),將原料放在垂直的坩堝內(nèi), 然后從坩堝尖端開始通過預設(shè)好的溫度梯度區(qū)作定向凝固。通過緩慢降溫而生長出單晶。

本設(shè)備主要用于氮化鎵(GaN)單晶生長;還可用于氧化鎵(Ga2O3)、氮化鋁(AIN)、 磷化銦(InP)、砷化鎵(GaAs)等外延生長。

本設(shè)備主要用于氮化鎵(GaN)單晶生長;還可用于氧化鎵(Ga2O3)、氮化鋁(AIN)、 磷化銦(InP)、砷化鎵(GaAs)等外延生長。

本設(shè)備主要用于砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等化合物晶體生長。設(shè)備由機架、安瓿支撐機構(gòu)、加熱器和控制系統(tǒng)組成,能夠?qū)崿F(xiàn)安瓿移動和轉(zhuǎn)動的精確控制。

本設(shè)備主要用于氧化鎵(Ga2O3)單晶生長,將原料放在留有狹縫的模具中,熔液借虹吸作 用上升到模具頂部,受籽晶誘導結(jié)晶生長成單晶。